無(wú)塵潔凈室的基本常識(shí)
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發(fā)表時(shí)間:2021-04-27
一、無(wú)塵潔凈室是指將一定空間范圍內(nèi)之空氣中的微粒子、細(xì)菌等之污染物排除,并將室內(nèi)之溫度、潔凈度、室內(nèi)壓力、氣流速度與氣流分布、噪音振動(dòng)及照明、靜電控制在某一需求范圍內(nèi),而所給予特別設(shè)計(jì)建成的無(wú)塵潔凈房間
二、無(wú)塵潔凈室的原理。潔凈室是利用HEPA、空氣凈化設(shè)備,其塵埃的收集率達(dá)99.97~99.%之多,因此經(jīng)過(guò)此過(guò)濾器過(guò)濾的空氣可說(shuō)十分干凈。然而潔凈室內(nèi)除了人以外,尚有機(jī)器等之發(fā)塵源,這些發(fā)生的塵埃一旦擴(kuò)散,即無(wú)法保持潔凈空間,因此必須利用氣流將發(fā)生的塵埃迅速排出室外。
三、無(wú)塵潔凈室中的三塵。無(wú)塵潔凈室有三大原則:禁塵、帶塵、產(chǎn)塵。風(fēng)淋室作為進(jìn)入潔凈室的緩沖通道之 一,是控制帶塵的最好凈化設(shè)備之一,它可以最大限度地減少員工進(jìn)出無(wú)塵潔凈室所帶來(lái)的污染問(wèn)題。風(fēng)淋室的兩道門(mén)電子互鎖,可以兼起氣閘室的作用,阻止外界污染和未被凈化的空氣進(jìn)入無(wú)塵潔凈區(qū)域,達(dá)到生產(chǎn)車間所要求的生產(chǎn)潔凈環(huán)境。
四,無(wú)塵潔凈室最主要之作用在于控制產(chǎn)品(如硅芯片等)所接觸之大氣的潔凈度日及溫濕度,使產(chǎn)品能在一個(gè)良好之環(huán)境空間中生產(chǎn)、制造,此空間我們稱之為無(wú)塵潔凈室。按照國(guó)際慣例,無(wú)塵凈化級(jí)別主要是根據(jù)每立方米空氣中粒子直徑大于劃分標(biāo)準(zhǔn)的粒子數(shù)量來(lái)規(guī)定。也就是說(shuō)所謂無(wú)塵并非%沒(méi)有一點(diǎn)灰塵,而是控制在一個(gè)非常微量的單位上。當(dāng)然這個(gè)標(biāo)準(zhǔn)中符合灰塵標(biāo)準(zhǔn)的顆粒相對(duì)于我們常見(jiàn)的灰塵已經(jīng)是小的微乎其微,但是對(duì)于光學(xué)構(gòu)造而言,哪怕是一點(diǎn)點(diǎn)的灰塵都會(huì)產(chǎn)生非常大的負(fù)面影響,所以在光學(xué)構(gòu)造產(chǎn)品的生產(chǎn)上,無(wú)塵是必然的要求。
伍.每立方米將小于0.5微米粒徑的微塵數(shù)量控制在個(gè)以下,就達(dá)到了國(guó)際無(wú)塵標(biāo)準(zhǔn)的A級(jí)。目前應(yīng)用在芯片級(jí)生產(chǎn)加工的無(wú)塵標(biāo)準(zhǔn)對(duì)于灰塵的要求高于A級(jí),這樣的高標(biāo)主要被應(yīng)用在一些等級(jí)較高芯片生產(chǎn)上。微塵數(shù)量被嚴(yán)格控制在每立方米個(gè)以內(nèi),這也就是業(yè)內(nèi)俗稱的1K級(jí)別
二、無(wú)塵潔凈室的原理。潔凈室是利用HEPA、空氣凈化設(shè)備,其塵埃的收集率達(dá)99.97~99.%之多,因此經(jīng)過(guò)此過(guò)濾器過(guò)濾的空氣可說(shuō)十分干凈。然而潔凈室內(nèi)除了人以外,尚有機(jī)器等之發(fā)塵源,這些發(fā)生的塵埃一旦擴(kuò)散,即無(wú)法保持潔凈空間,因此必須利用氣流將發(fā)生的塵埃迅速排出室外。
三、無(wú)塵潔凈室中的三塵。無(wú)塵潔凈室有三大原則:禁塵、帶塵、產(chǎn)塵。風(fēng)淋室作為進(jìn)入潔凈室的緩沖通道之 一,是控制帶塵的最好凈化設(shè)備之一,它可以最大限度地減少員工進(jìn)出無(wú)塵潔凈室所帶來(lái)的污染問(wèn)題。風(fēng)淋室的兩道門(mén)電子互鎖,可以兼起氣閘室的作用,阻止外界污染和未被凈化的空氣進(jìn)入無(wú)塵潔凈區(qū)域,達(dá)到生產(chǎn)車間所要求的生產(chǎn)潔凈環(huán)境。
四,無(wú)塵潔凈室最主要之作用在于控制產(chǎn)品(如硅芯片等)所接觸之大氣的潔凈度日及溫濕度,使產(chǎn)品能在一個(gè)良好之環(huán)境空間中生產(chǎn)、制造,此空間我們稱之為無(wú)塵潔凈室。按照國(guó)際慣例,無(wú)塵凈化級(jí)別主要是根據(jù)每立方米空氣中粒子直徑大于劃分標(biāo)準(zhǔn)的粒子數(shù)量來(lái)規(guī)定。也就是說(shuō)所謂無(wú)塵并非%沒(méi)有一點(diǎn)灰塵,而是控制在一個(gè)非常微量的單位上。當(dāng)然這個(gè)標(biāo)準(zhǔn)中符合灰塵標(biāo)準(zhǔn)的顆粒相對(duì)于我們常見(jiàn)的灰塵已經(jīng)是小的微乎其微,但是對(duì)于光學(xué)構(gòu)造而言,哪怕是一點(diǎn)點(diǎn)的灰塵都會(huì)產(chǎn)生非常大的負(fù)面影響,所以在光學(xué)構(gòu)造產(chǎn)品的生產(chǎn)上,無(wú)塵是必然的要求。
伍.每立方米將小于0.5微米粒徑的微塵數(shù)量控制在個(gè)以下,就達(dá)到了國(guó)際無(wú)塵標(biāo)準(zhǔn)的A級(jí)。目前應(yīng)用在芯片級(jí)生產(chǎn)加工的無(wú)塵標(biāo)準(zhǔn)對(duì)于灰塵的要求高于A級(jí),這樣的高標(biāo)主要被應(yīng)用在一些等級(jí)較高芯片生產(chǎn)上。微塵數(shù)量被嚴(yán)格控制在每立方米個(gè)以內(nèi),這也就是業(yè)內(nèi)俗稱的1K級(jí)別
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